Beschreiwung
Gallium Antimonid GaSb, e Hallefleit vun der Grupp III-V Verbindungen mat Zink-Mëschung Gitter Struktur, gëtt synthetiséiert duerch 6N 7N héich Rengheet Gallium an Antimon Elementer, an ugebaut an Kristall duerch LEC Method aus directionally gefruer polycrystalline ingot oder VGF Method mat EPD <1000cm-3.GaSb Wafer kann a geschnidden a fabrizéiert ginn duerno aus eenzel kristallinem Ingot mat enger héijer Uniformitéit vun elektresche Parameteren, eenzegaartegen a konstante Gitterstrukturen, a gerénger Defektdicht, héchste Brechungsindex wéi déi meescht aner net-metallesch Verbindungen.GaSb ka mat enger grousser Auswiel an der exakter oder aus Orientéierung veraarbecht ginn, niddereg oder héich dotéiert Konzentratioun, gutt Uewerflächefinanz a fir MBE oder MOCVD epitaxial Wuesstum.Gallium Antimonide Substrat gëtt an de modernsten Fotoopteschen an optoelektroneschen Uwendungen benotzt wéi d'Fabrikatioune vu Fotodetektoren, Infraroutdetektoren mat laangem Liewen, héijer Empfindlechkeet an Zouverlässegkeet, Photoresist Komponent, Infrarout LEDs a Laser, Transistoren, thermesch Photovoltaikzelle. an Thermo-Photovoltaiksystemer.
Liwwerung
Gallium Antimonide GaSb bei Western Minmetals (SC) Corporation ka mat n-Typ, p-Typ an ongedopte hallefisoléierend Konduktivitéit an der Gréisst vun 2" 3" a 4" (50mm, 75mm, 100mm) Duerchmiesser ugebuede ginn, Orientéierung <111> oder <100>, a mat wafer Uewerfläch Finish vun as-cut, etched, poléiert oder héich Qualitéit epitaxy fäerdeg fäerdeg.All Scheiwen sinn individuell Laser schrëftlech fir Identitéit.Mëttlerweil gëtt polykristallin Gallium Antimonid GaSb Klump och op Ufro un déi perfekt Léisung personaliséiert.
Technesch Spezifizéierung
Gallium Antimonid GaSbSubstrat gëtt an de modernste Fotooptiker an optoelektroneschen Uwendungen benotzt wéi d'Fabrikatioune vu Fotodetektoren, Infraroutdetektoren mat laangem Liewen, héijer Empfindlechkeet an Zouverlässegkeet, Photoresist Komponent, Infrarout LEDs a Laser, Transistoren, thermesch Photovoltaikzellen an Thermozellen. - Photovoltaiksystemer.
Artikelen | Standard Spezifizéierung | |||
1 | Gréisst | 2" | 3" | 4" |
2 | Duerchmiesser mm | 50,5 ± 0,5 | 76,2±0,5 | 100 ± 0,5 |
3 | Wuesstem Method | LEC | LEC | LEC |
4 | Konduktivitéit | P-Typ / Zn-dotéiert, Net-dotéiert, N-Typ / Te-dotéiert | ||
5 | Orientéierung | (100)±0,5°, (111)±0,5° | ||
6 | Dicke μm | 500±25 | 600±25 | 800±25 |
7 | Orientéierung Flat mm | 16±2 | 22±1 | 32,5±1 |
8 | Identifikatioun Flat mm | 8±1 | 11±1 | 18±1 |
9 | Mobilitéit cm2/Vs | 200-3500 oder wéi néideg | ||
10 | Carrier Konzentratioun cm-3 | (1-100)E17 oder wéi néideg | ||
11 | TTV μm max | 15 | 15 | 15 |
12 | Béi μm max | 15 | 15 | 15 |
13 | Spannung μm max | 20 | 20 | 20 |
14 | Dislokatiounsdicht cm-2 max | 500 | 1000 | 2000 |
15 | Uewerfläch Finish | P/E, P/P | P/E, P/P | P/E, P/P |
16 | Verpakung | Eenzel Wafer Container an Aluminiumbeutel versiegelt. |
Linear Formel | GaSb |
Molekulare Gewiicht | 191,48 |
Kristallstruktur | Zénk Mëschung |
Ausgesinn | Grey kristallin fest |
Schmëlzpunkt | 710°C |
Kachpunkt | N/A |
Dicht op 300K | 5,61 g/cm3 |
Energie Gap | 0,726 eV |
Intrinsesch Resistivitéit | 1E3 Ω-cm |
CAS Zuel | 12064-03-8 |
EC Nummer | 235-058-8 |
Gallium Antimonid GaSbbei Western Minmetals (SC) Corporation kann mat n-Typ, p-Typ an ongedopte semi-isoléierend Konduktivitéit an der Gréisst vun 2" 3" a 4" (50mm, 75mm, 100mm) Duerchmiesser ugebuede ginn, Orientéierung <111> oder <100 >, a mat wafer Uewerfläch Finish vun as-cut, etched, poléiert oder héich Qualitéit epitaxy fäerdeg fäerdeg.All Scheiwen sinn individuell Laser schrëftlech fir Identitéit.Mëttlerweil gëtt polykristallin Gallium Antimonid GaSb Klump och op Ufro un déi perfekt Léisung personaliséiert.
Beschaffungstips
Gallium Antimonid GaSb