Beschreiwung
Gallium ArsenidGaAs ass a direkt Band Spalt Verbindung semiconductor vun Grupp III-V synthetiséiert vun op d'mannst 6N 7N héich Rengheet Gallium an Arsen Element, an ugebaut Kristallsglas produzéiert vun VGF oder LEC Prozess aus héich Rengheet polycrystalline Gallium Arsenid, gro Faarf krut, Kubikzentimeter Kristaller mat Zénk-Blend Struktur.Mat der Doping vu Kuelestoff, Silizium, Tellur oder Zénk fir n-Typ oder p-Typ an semi-isoléierend Konduktivitéit respektiv ze kréien, kann e zylindresche InAs Kristall geschnidden a fabrizéiert ginn an eidel a wafer an als geschnidden, geätzt, poléiert oder epi. -prett fir MBE oder MOCVD epitaxial Wuesstem.Gallium Arsenid Wafer gëtt haaptsächlech benotzt fir elektronesch Geräter ze fabrizéieren wéi Infrarout Liichtdioden, Laserdioden, optesch Fënsteren, Feldeffekt Transistoren FETs, linear vun digitale ICs a Solarzellen.GaAs Komponente sinn nëtzlech an ultra-héich Radiofrequenzen a séier elektronesch Schaltapplikatioun, schwaach Signalverstärkungsapplikatiounen.Ausserdeem ass Gallium Arsenide Substrat en idealt Material fir d'Fabrikatioun vu RF Komponenten, Mikrowellenfrequenz a monolithesche ICs, an LEDs Geräter an opteschen Kommunikatiounen a Kontrollsystemer fir seng saturéierend Hallmobilitéit, héich Kraaft an Temperaturstabilitéit.
Liwwerung
Gallium Arsenide GaAs bei Western Minmetals (SC) Corporation kann als polykristallin Klump oder Eenkristallwafer an als geschniddene, geätzten, poléierten oder epi-ready Wafers an enger Gréisst vun 2" 3" 4" a 6" (50 mm) geliwwert ginn. 75mm, 100mm, 150mm) Duerchmiesser, mat p-Typ, n-Typ oder semi-isoléierend Konduktivitéit, an <111> oder <100> Orientéierung.Déi personaliséiert Spezifizéierung ass fir déi perfekt Léisung fir eise Clienten weltwäit.
Technesch Spezifizéierung
Gallium Arsenid GaAsWafere ginn haaptsächlech benotzt fir elektronesch Geräter ze fabrizéieren wéi Infrarout Liichtdioden, Laserdioden, optesch Fënsteren, Feldeffekt Transistoren FETs, linear vun digitale ICs a Solarzellen.GaAs Komponente sinn nëtzlech an ultra-héich Radiofrequenzen a séier elektronesch Schaltapplikatioun, schwaach Signalverstärkungsapplikatiounen.Ausserdeem ass Gallium Arsenide Substrat en idealt Material fir d'Fabrikatioun vu RF Komponenten, Mikrowellenfrequenz a monolithesche ICs, an LEDs Geräter an opteschen Kommunikatiounen a Kontrollsystemer fir seng saturéierend Hallmobilitéit, héich Kraaft an Temperaturstabilitéit.
Nee. | Artikelen | Standard Spezifizéierung | |||
1 | Gréisst | 2" | 3" | 4" | 6" |
2 | Duerchmiesser mm | 50,8±0,3 | 76,2±0,3 | 100 ± 0,5 | 150 ± 0,5 |
3 | Wuesstem Method | VGF | VGF | VGF | VGF |
4 | Konduktivitéit Typ | N-Typ/Si oder Te-dotéiert, P-Typ/Zn-dotéiert, Semi-isoléierend/ondotéiert | |||
5 | Orientéierung | (100) ± 0,5° | (100) ± 0,5° | (100) ± 0,5° | (100) ± 0,5° |
6 | Dicke μm | 350±25 | 625±25 | 625±25 | 650±25 |
7 | Orientéierung Flat mm | 17±1 | 22±1 | 32±1 | Notch |
8 | Identifikatioun Flat mm | 7±1 | 12±1 | 18±1 | - |
9 | Resistivitéit Ω-cm | (1-9)E(-3) fir p-Typ oder n-Typ, (1-10)E8 fir semi-isoléierend | |||
10 | Mobilitéit cm2/vs | 50-120 fir p-Typ, (1-2.5) E3 fir n-Typ, ≥4000 fir semi-isoléierend | |||
11 | Carrier Konzentratioun cm-3 | (5-50)E18 fir p-Typ, (0.8-4)E18 fir n-Typ | |||
12 | TTV μm max | 10 | 10 | 10 | 10 |
13 | Béi μm max | 30 | 30 | 30 | 30 |
14 | Spannung μm max | 30 | 30 | 30 | 30 |
15 | EPD cm-2 | 5000 | 5000 | 5000 | 5000 |
16 | Uewerfläch Finish | P/E, P/P | P/E, P/P | P/E, P/P | P/E, P/P |
17 | Verpakung | Eenzel Wafer Container versiegelt an Aluminium Komposit Sak. | |||
18 | Remarquen | Mechanesch Grad GaAs Wafer ass och op Ufro verfügbar. |
Linear Formel | GaAs |
Molekulare Gewiicht | 144,64 |
Kristallstruktur | Zénk Mëschung |
Ausgesinn | Grey kristallin fest |
Schmëlzpunkt | 1400°C, 2550°F |
Kachpunkt | N/A |
Dicht op 300K | 5,32 g/cm3 |
Energie Gap | 1.424 eV |
Intrinsesch Resistivitéit | 3.3E8 Ω-cm |
CAS Zuel | 1303-00-0 |
EC Nummer | 215-114-8 |
Gallium Arsenid GaAsbei Western Minmetals (SC) Corporation kann als polycrystalline Klump oder eenzel Kristallwafer an as-cut, etched, poléiert oder epi-ready wafers an enger Gréisst vun 2" 3" 4" a 6" (50mm, 75mm, 100mm) geliwwert ginn , 150mm) Duerchmiesser, mat p-Typ, n-Typ oder semi-isoléierend Konduktivitéit, an <111> oder <100> Orientatioun.Déi personaliséiert Spezifizéierung ass fir déi perfekt Léisung fir eise Clienten weltwäit.
Beschaffungstips
Gallium Arsenid Wafer